Crossbeam 350双束扫描电镜，该设备同时具备微纳刻蚀加工能力和分析观察能力，成为微纳结构加工、截面分析、透射电镜样品制备等领域的重要工具。在实际应用中，该设备能够精确切割样品，获取失效区域的截面图像，直观展示内部结构和缺陷形态。

一、仪器信息

仪器名称：聚焦离子束扫描电子显微镜

生产制造商：德国卡尔•蔡司公司（Carl Zeiss AG）

型号：Crossbeam 350

二、主要技术参数

1. 二次电子分辨率：0.9 nm@15kV；

2. 放大倍数：12×—2000000×；

3. 离子束分辨率：≤3 nm@30kV；

4. 离子束最大可用加工束流强度100 nA；

5. GIS气体注入系统：Pt；

5. 能谱探头：硅漂移探头；有效探测面积40mm²；

      元素探测范围：Be4～Cf98

6. EBSD探头：取向精度高达0.05度；在线解析最高标定速度600pps，此时花样分辨率仍能保持为312*256；

7. 原位拉伸台：载荷加载范围：0~4000N；

8. 原位电化学测试样品台：配备液体芯片，窗口厚度优于30nm，液体间隔层厚度可选，最小100nm；

9. 冷冻制样样品台：冷台温度：-180℃；

10. 纳米探针台：三轴XYZ行程：±10.0mm；

          最大运动速度：3mm/s；

          细调分辨率：1.2nm。

三、应用领域

广泛应用于金属、能源化工、电子半导体等领域。

四、服务范围

1.对材料进行形貌表征、表面元素成分分布、晶粒尺寸统计和取向分析等；

2.常温及低温环境下TEM制样和截面分析；

3.通过相应的原位附件，可以在微纳尺度下完成原位力学和原位电化学性能测试。